Technische Ausstattung

Technische Ausstattung des Labors Nanotechnologie

Laser Interferenz Lithografie (LIL)

Die LIL basiert auf der Interferenz zweier aufgeweiteter Laserstrahlen auf einem Substrat. So können periodische Strukturen mit Periodizitäten zwischen 200 und 1000 nm (je nach Einfallswinkel) großflächig erzeugt werden. Als Lichtquelle dient ein Helium-Cadmium-Laser mit einer Wellenlänge von 325 nm. Durch den Einsatz strahlformender Optiken kann das TEM00-Strahlprofil (Gaußförmige Intensitätsverteilung) des Lasers in ein Tophat-Strahlprofil (konstante Intensität) gewandelt werden um Proben möglichst homogen über große Flächen zu belichten.

Hochvakuum-Beschichtungssystem

Das Leica EM ACE600 ist ein vielseitiges Hochvakuum-Beschichtungssystem und kann zum Sputtern von Targets aus Aluminium, Gold, Kupfer, Platin oder Titan ausgestattet werden. Die eingebaute Quartz-Messung sorgt für präzise Schichtdicken auf bis zu 4 Zoll großen Wafern.

CNI Tool

Das "Compact Nanoimprint Tool" der Firma NIL Technology ist ein einfach zu bedienendes und sehr zuverlässiges Werkzeug zur Herstellung nanostrukturierter Proben. Mit dieser kompakten Anlage sind der Nanoimprint von ebenen und zerbrechlichen Oberflächen, zum Beispiel Halbleitern, ebenso wie die Oberflächenstrukturierung von Metallen und Isolatoren möglich. Zudem ist dieses Verfahren wesentlich schneller als beispielsweise die Elektronenstrahl Lithographie. Der Stempel hat einen Durchmesser von ca. 100 mm.


Hotplate

Die HotPlate HP 8 TT stammt aus dem Hause SUSS und eignet sich hervorragend für die Zusammenarbeit mit dem LabSpin System. In der HotPlate befindet sich unter der Basis verbaut eine spezielle Heizspule, welche einen sehr gleichmäsigen Wärmeeintrag garantiert. Zusätzlich können Substrate bis zu einem Durchmesser von 600 mm prozessiert werden.

Kontaktwinkelmessgerät

Mit dem Kontaktwinkelmessgerät "Easy Drop" der Firma Kruss können der Kontaktwinkel von Flüssigkeiten auf Oberflächen und deren freie Oberflächenenergie einfach und sehr zuverlässig bestimmt werden. Eine Präzisionsoptik erlaubt perfekte Untersuchungen der Tropfenform (DSA - drop shape analysis).

Lichtmikroskop

Des Weiteren steht ein Lichtmikroskop der Firma Zeiss für vielfältige Untersuchungen zur Verfügung. Das Lichtmikroskop Axio Scope A1 ist ein Allround Mikroskop. Speziell ist es für die Auflichtmikroskopie im Hellfeld ausgerüstet. Aber auch andere Methoden wie Dunkelfeld oder Differentialinterferenzkontrast sind möglich.

Profilometer

Das Dektak 3030 ist ein Oberflächen-Profilmessgerät, welches vertikale Strukturen von ca. 130 μm bis 5 nm auflösen kann. Die Oberfläche verschiedenster Substratmaterialien kann untersucht werden.

Spin Coater

Spin Coating, auch als Rotationsbeschichten bezeichnet, ist ein Verfahren zur Aufbringung von besonders gleichmäßigen und dünnen Schichten auf ein Substrat. Der verfügbare Spin Coater Lab Spin 6 TT von SUSS Micro Tec zeichnet sich durch die Vielzahl der verwendbaren Substrate (sogar von Bruchstücken) und der kontinuierlich, präzisen Beschichtung aus. Durch die spezielle Prozess-Schüssel-Geometrie arbeitet dieser SpinCoater sehr wiederholgenau.

Vakuumofen

Zur Trocknung von Substraten und Schichten wird im Labor ein Vakuumtrockenschrank von BINDER eingesetzt. Dieser Ofen wird speziell für das kondensatfreie und homogene Trocknen von Proben und Substraten eingesetzt. Besonders geeignet ist der Ofen VDL 53 für leichte Proben und auch Pulver, da diese beim Trocknungsprozess nicht verwirbelt werden.