EFFSIL300 – Effiziente und sichere Leistungstransistoren auf Basis von 300mm Wafern Teilvorhaben: „Holographische Lithographie und optische Messtechnik“

Das EFRE-geförderte Forschungsprojekt "EFFSIL300 – Effiziente und sichere Leistungstransistoren auf Basis von 300mm Wafern" wird im Teilvorhaben "Holographische Lithographie und optische Messtechnik" an der WHZ bearbeitet. Dabei wird insbesondere eine Technologie zur Umsetzung holografischer Lithographie im Bereich der Leistungshalbleiterproduktion erforscht. In diesem Rahmen werden mathematische Grundlagen in computerbasierte Simulations- und Berechnungswerkzeuge überführt, holografische Laboraufbauten realisiert sowie holografische Lithgraphie-Masken berechnet, hergestellt und getestet. Weiterhin wird im Rahmen des Projektes prozessbegleitende Messtechnik für die erzeugten Oberflächenprofile sowie für die Wellenfronten der beteiligten Lichtquellen entrwickelt. Ergänzend wird an neuartigen Superkontinuumslichtquellen zum Betrieb der Messtechnik beziehungsweise zur Ermöglichung neuartiger Messtechnik geforscht.